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简略信息一览：
激光沉积技术,什么是激光沉积技术
脉冲激光沉积，就是将激光瞬间聚焦于靶材上一个较小面积上，利用激光的高能量密度将部分靶材料蒸发甚至电离，使其能够脱离靶材而向基底运动，进而在温度较低的基地上沉积，达到成膜的目的的一种手段。
脉冲激光沉积（Pulsed Laser Deposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。
PLD制膜技术，即脉冲激光沉积，是一种近年来备受瞩目的先进制膜方法。其基本原理是利用高强度脉冲激光聚焦在固体靶材上，产生等离子化，随后将靶材物质溅射到目标物体表面。
准分子激光，照射。脉冲激光沉积原理是使用准分子激光进行基底加热，使用方法是直接照射就可以。脉冲激光沉积（PulsedLaserDeposition，PLD），也被称为脉冲激光烧蚀（pulsedlaserablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击。
在物理气相沉积领域，PLD技术（Pulsed Laser Deposition，脉冲激光沉积）作为一种高效薄膜制备手段，其发展历程和核心原理引人入胜。始于60年代激光器研究的启蒙，Q开关激光器在70年代的突破为其奠定了坚实基础。
光学镀膜技术和应用始于19 世纪在20世纪的后50年内，光学镀膜技术得到飞速发展。镀膜的方法有很多种，其中一种就是脉冲激光沉积（PLD） 方法，它是利用激光将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者 PLD作为一种新的先进的成膜技术。
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